Description :
Un FIB (Focused Ion Beam) est un appareil qui permet de réaliser des gravures ou des dépôts localisées avec une très grande précision.
En connectant l'appareil à un système de photolithographie électronique (société Raith), permettant de piloté indifféremment la colonne électronique ou la colonne FIB, nous pouvons réaliser des lithographies par faisceau d'électrons (E-beam).